UV-Auflösbare Materialien
Intermediäre
Fotoinitiator
Hochbrechungsindex Monomer Fotokurnierung Produkte
Bis(4-methacryloylthiophenyl) sulfide
Bis(4-methacryloylthiophenyl) sulfide
UV-Auflösbare Materialien Hochbrechungsindex Monomer
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2-(2-Naphthalenylthio)ethyl acrylate
2-(2-Naphthalenylthio)ethyl acrylate
UV-Auflösbare Materialien Hochbrechungsindex Monomer
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1,1′-Thiobis(2,3-epithiopropane)
1,1′-Thiobis(2,3-epithiopropane)
UV-Auflösbare Materialien Hochbrechungsindex Monomer
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Bis(2,3-epithiopropyl) disulfide
Bis(2,3-epithiopropyl) disulfide
UV-Auflösbare Materialien Hochbrechungsindex Monomer
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2-(2-Benzothiazolylthio)ethyl acrylate
2-(2-Benzothiazolylthio)ethyl acrylate
UV-Auflösbare Materialien Hochbrechungsindex Monomer
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2,5-Bis(mercaptomethyl)-1,4-dithiane
2,5-Bis(mercaptomethyl)-1,4-dithiane
UV-Auflösbare Materialien Hochbrechungsindex Monomer
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Intermediäre
Thiophenol-Derivate und Mercaptanverbindungen
Thioanisoliderivate und Methylthioverbindungen
Sulfid - und Disulfidverbindungen
Sulfon und Sulfoxidverbindungen
Die Thiophene-Serie
Pyridin - und Anilin-Serie
Die anderen
Fotoinitiator
Freie Radikale Typ I
Freie Radikale Typ II
Coinitiator
Kationischer Typ
Sichtbares Licht Typ
UV-Auflösbare Materialien
Hochbrechungsindex Monomer
Fotokurnierung Produkte
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