3 つの臭素原子が電子密度を引き下げ、 − SH 基の酸性度を高め、同時に分子量と密度を増加させる重質の電子欠乏チオール。この組み合わせはユニークな反応性と材料特性を実現します ：
高密度チオール − エンのネットワーク：ジアリルエーテルとの光重合により ， ハロゲンに富んだ膜 （ ρ 2.1g cm − 3 ， n 1.73 ） を生成し ， 義歯や放射線遮蔽ワニス用の X 線不透明コーティングとして機能した。
難燃性エポキシ硬化剤 ：5 〜 10 wt% の組み込みは、リンやアンチモンなしで UL—94 V—0 評価を提供し、 Tg 155 °C と低い煙密度 （ Ds 4 min < 150 ） を維持します。
重金属スキャベンジャー：柔らかい硫黄と近傍臭素は、酸性工業用塩水から Hg2 + （ log K = 17.2 ） を選択的に抽出する二歯酸 Br ， S 結合ポケットを形成し、水銀を 0.5ppb 以下に還元する樹脂ベースのカラムを可能にする。
π 共役親電体の前駆体： Pd 触媒による C — H オレフィン化または 2 位または 4 位でのソノガシラカップリングは、 n 型有機半導体の電子受容体ブロックとして使用されるトリブロモビニルチオエーテルを生成する （電子移動度 0.12 cm2 V − 1 s − 1） 。
相転移臭素化試薬 ： S—H 結合は対応する二硫化物に容易に酸化され、中性無溶媒条件下でケトンの選択的 α 臭素化のために in situ Br2 を生成する。
2 〜 8 °C の窒素下で、二硫化物またはポリ臭素化副産物の形成を避けるために光および酸化剤から保護して保管します。
