ラジカル除去 2，6— ジ —tert— ブチルフェノールの骨格と親核性パラ — メルカプト基を結合させ、 1 分子で二重の抗酸化活性と硫黄中心の反応性をもたらす阻害フェノールチオール。主な用途 ：
紫外線安定性チオール − エンの光学コーティング： トリアリルエーテル中の 0.5 〜 2 重量% は、スマートフォンのカメラレンズや OLED バリア層用のクリアフィルム （Tg 120 °C 、 1 000 h Q—UVB 後の YI < 2 、 n 1.58） を生成します。
RAFT / MADIX 鎖転移剤： 大型のフェノキシルラジカルは成長鎖を終止させ、 157 nm 浸漬リソグラフィートップコート用の細分散 （Đ < 1.15） フッ素化アクリレートテレケリックを提供します。
金属選択的浮遊コレクター ： フェノール OH は酸化物表面にアンカーし、 − SH は Cu2 + / Pb2 + をキレートし （ log K 14.9 / 13.2 ） 、鉱尾鉱の受益において pH 8 で Fe に対して 98% の選択性を達成する。
潤滑剤の抗酸化剤：0.3 wt% は、グループ III ベースオイルで RPVOT 誘導時間を 250 分から 550 分に延長し、 DIN 51587 タービン仕様を満たしています。
還元分解可能なバイオコンジュゲートリンカー ： キノン ‐ チオール酸化還元電位 （ E ° ′ − 0.15 V vs NHE ） は、グルタチオンによる腫瘍サイトソール中の細胞毒性ペイロードの放出を可能にする。
2 〜 8 °C の窒素下で、二硫化物またはキノンの形成を抑制するために、光や酸化剤から離れて保管してください。
