Name: Bis(4-methacryloylthiophenyl) sulfide
Brand: YANGFAN New Materials (Zhejiang) Co., Ltd.
SKU: T675-10
Availability: InStock

Descrizione del prodotto

Bis (4 - metacriloiltiofenil) solfuro è un dimetacrilato ricco di zolfo in cui due unità di 4 - mercaptofenil sono collegate da un ponte tioetere centrale e terminate con gruppi metacriloili polimerizzabili. Il composto è facilmente solubile in toluene, cloroformio e THF, scarsamente solubile in etanolo e praticamente insoluble in acqua. Subisce una rapida polimerizzazione dei radicali liberi per dare reti altamente reticolate con alto indice di rifrazione ed eccellente trasparenza ottica. I lotti commerciali sono forniti con purezza ≥ 98% e devono essere conservati a 2 - 8 ° C sotto azoto per minimizzare l'iniziazione termica prematura.
Dati fisico-chimici chiave:
Punto di fusione: 64 ° C
Punto di ebollizione previsto: 528 °C / 760 mmHg
Densità: 1,30 g cm − 3 (20 ° C)
Punto di flash: 220 ° C
Log P (octanolo / acqua): 6,8 (previsto)
Indice di rifrazione: 1.652 (previsto)
Utilizzamenti tipici:
Monomero ottico ad alto indice per rivestimenti di guida d'onda visibile / vicino a infrarossi, incapsulati LED e array di microlenti di precisione.
Cross-linker in tiolene o UV-impronta resiste che forniscono una maggiore resistenza all 'incisione al plasma per microelettronica.
Linker rigido e ricco di zolfo nei cementi ossei biomedici e nei compositi dentali che mostrano un basso restringimento per polimerizzazione e un 'elevata radiopacità.
Specifica di qualità (Commercial Grade):
Purezza (HPLC): ≥ 98%
Contenuto di acqua (KF): ≤ 0,3%
Inibitore (MEHQ): 100 - 200 ppm
Solventi residui (GC): ≤ 0,5%
Metalli pesanti ≤ 20 ppm
Dichiarazione di pericolo:
Causa irritazione della pelle e degli occhi (H315 + H319). Può causare irritazione respiratoria se inalato. Evitare la formazione di polvere; utilizzare guanti, occhiali e una ventilazione adeguata. Conservare in un luogo fresco e asciutto lontano dalla luce, dal calore e dagli iniziatori radicali. SDS disponibile su richiesta.

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