मिथाइल बेनज़ोइलफॉर्मैट फेनिलग्लोक्सिलिक एसिड का मिथाइल एस्टर है, जो एक α-केटो-रोमैटिक संरचना ले जाता है।संयुग्मित बेन्ज़ोइल-एस्टर भाग मजबूत यूवी-ए अवशोषण (λmax ≈ 340 एनएम, लॉग ε ≈ 3.9) और एक उच्च ट्रिपलट-ऊर्जा फोटोइंडिटिंग केंद्र देता है।उत्पाद अधिकांश ऐक्रेलिक मोनोमर, एथेनॉल, एसिटोन और टॉल्यूइन के साथ मिश्रित है, और पानी में व्यावहारिक रूप से अघलनशील है (25 डिग्री सेल्सियस पर <0.5 ग्राम एल−1)।वाणिज्यिक एमबीएफ ≥ 99 % शुद्धता में आपूर्ति की जाती है और प्रकाश से दूर कसकर बंद कंटेनरों में < 25 °C पर संग्रहीत होने पर ≥ 2 वर्षों के लिए स्थिर रहता है ।
भौतिक रसायनिक डेटाः
पिघलने बिंदु: ≈ 16 °C
उबलने का बिंदु: 247-248 °C / 760 mmHg
घनत्व: 1.155-1.20 ग्राम सेमी-3 (20 °C)
फ्लैश बिंदु: 103.8-115 °C (बंद कप)
लॉग पी (ऑक्टानॉल / पानी): 1.4 (predicted)
वाष्प दबाव: <0.1 mmHg 25 °C पर
सामान्य उपयोग:
0.5-3% w / w पर स्पष्ट और रंगीन कोटिंग, स्याही, चिपकने वाले और 3-D प्रिंटिंग राजीवों के लिए यूवी-एलईडी या पारा-लैंप के इलाज के लिए टाइप II फोटोइनिटेटर; कम पीलेपन और कम गंध की विशेषताएं।
जड़ी बूटी के संश्लेषण के लिए मेटामिट्रॉन और अन्य कृषि रसायनों के लिए प्रमुख मध्यवर्ती .
(R)-मानडेलिक एसिड और बाद के अर्ध-सेंटेक्टिक β-लैक्टम एंटीबायोटिक्स, एंटीट्यूमर और मोटापे विरोधी एजेंट के लिए बिल्डिंग ब्लॉक।
गुणवत्ता विनिर्देश (Commercial Grade):
शुद्धता (जीसी): ≥ 99%
पानी की सामग्री (केएफ): ≤ 0.3%
मुक्त एसिड (बेनज़ोइक एसिड के रूप में): ≤ 0.2%
इजनिंग पर अवशेष: ≤ 0.1%
भारी धातु: ≤ 20 पीपीएम
Hazard Statement:
त्वचा और आंखों की जलन का कारण बनता है (H315 + H319)।वाष्प की साँस लेने से बचें; दस्ताने, चश्मे और पर्याप्त वेंटिलेशन का उपयोग करें।ऑक्सीडेंट्स और मजबूत आधारों से दूर एक शांत, सूखी जगह में स्टोर करें।एसडीएस अनुरोध पर उपलब्ध।
