Le disulfure de bis (4 - fluorophényle) est un disulfure diaryl dans lequel les deux anneaux phényles sont para-substitués par du fluor. L'effet de retrait d'électrons des deux atomes de fluor renforce la liaison S-S et diminue la densité d'électrons sur les anneaux aromatiques, donnant au composé une stabilité oxydative et thermique améliorée par rapport au disulfure de diphényle. Il est librement soluble dans le dichlorométhane, le chloroforme, l'acétone et l'éthanol chaud, légèrement soluble dans le méthanol, et pratiquement insoluble dans l'eau (< 10 mg L − 1 à 25 ° C). Le matériau commercial est fourni à ≥ 98 % de pureté et reste stable pendant ≥ 2 ans lorsqu 'il est stocké à 2 - 8 °C sous atmosphère inerte.
Données physico-chimiques clés :
Point de fusion : 49 - 51 ° C
Point d'ébullition : 141 °C / 1 mmHg
Densité : 1,35 g cm − 3 (20 °C, solide)
Point de flambement : 144 °C (coupe fermée)
Log P (octanol / eau) : 4,2 (prédit)
Utilisations typique :
Réactif pour la sulfénylation douce et chimiosélective des réactifs de Grignard ou organozinc, fournissant des thio-éthers de 4 - fluorophényle utilisés dans la synthèse pharmaceutique.
Précurseur du chlorure de 4 - fluorophenylsulphényle (FPS-Cl) généré in situ avec SO2Cl2, utile pour la sulfénylation régiosélective des indoles et d'autres hétéroarènes riches en électrons.
Bloc de construction pour les monomères thio-aryl fluorés qui confèrent un indice de réfraction élevé et une résistance aux UV aux films de sulfure de polyarylène et aux revêtements de guide d'ondes optiques.
Spécifications de qualité (grade commercial) :
Pureté (GC) : ≥ 98%
Contenu en eau (KF) : ≤ 0,3 %
Acide libre (sous forme de HCl) : ≤ 0,1%
Résidus à l'allumage : ≤ 0,1%
Métaux lourds : ≤ 20 ppm
Déclaration Hazard :
Cause d'irritation de la peau et des yeux (H315 + H319).Évitez l'inhalation de poussière ; utilisez des gants, des lunettes de protection et une ventilation adéquate. Conserver dans un endroit frais et sec, loin des oxydants et des bases. SDS disponible sur demande.
